不能用PVD涂薄膜的材料在固定或位置膠合，釘扎，壓緊或擰緊在一起的組件，工具或零件。任何含有鋅，錫或鎘和其他低蒸氣壓合金添加劑的合金材料。含鉛合金，易熔合金和大多數具有低熔點(diǎn)的鋁，鋅和鎂合金。適合PVD硬薄膜涂層的表面具有光亮表面的精細研磨表面適合大涂層附著(zhù)力。地面應無(wú)燒，開(kāi)裂和砂輪上釉。由于磨削溫度較低，易切削CBN砂輪可為涂層提供出色的表面。

電弧增強輝光放電刻蝕這個(gè)模塊的設計原理和濺射刻蝕模塊的設計原理相似(圖8。取代在基底背面的磁控系統的是與空心陽(yáng)極底部結合的電弧蒸發(fā)器，電板蒸發(fā)器利用擋板與基底隔開(kāi)。在基底附近的附加電極收集來(lái)自擋板后面的電弧等離子體的電子。這些電子在基底附近產(chǎn)生一個(gè)強且寬的等離子體。等離子體的密度可以輕易地利用蒸發(fā)器的電流和附加電極來(lái)控制。在操作中，與在反轉磁控濺射情況下相同的直流或中頻電源可以用于提供空心陽(yáng)極的偏壓。在初步的試驗中，已經(jīng)發(fā)現對于鋼帶的刻蝕率在12nm/s的級別內，并且僅使用了濺射刻蝕模塊所需偏壓電源的一半。

本文基本包括兩個(gè)部分。在一部分中，將描述一種利用PVD研制的高度抗腐蝕的鋅合金膜的新型的聯(lián)合方法。在第二部分中，將報道把這種方法成功升級到一條具有鍍膜速率達到60m/min和帶寬為300的連續試驗型生產(chǎn)線(xiàn)的情況。這種基礎工作會(huì )認為是升級到工業(yè)前的一個(gè)中間步驟。發(fā)展中的新型鍍鋅合金鍍膜的聯(lián)合方法PVD為新型鋼帶鍍膜系統的有意義的發(fā)展方法提供了可能。特別是利用電子束蒸發(fā)和熱噴射蒸發(fā)可以獲得定制的幾μm/s的很高的沉積速率。因此，這些工藝對于連續鋼帶鍍膜在理論上是可行的。與傳統鍍膜工藝相比，這種PVD工藝具有關(guān)于所應用的鍍膜材料的高度靈活性和高度的環(huán)境兼容性的優(yōu)點(diǎn)。